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无氧解胶新方案:复坦希UVLED解胶机设备如何守护半导体晶圆品质?

时间:2025-10-14 10:01:07 作者:复坦希(北京)电子科技

  在半导体制造的精密链条中,晶圆解胶是决定产品良率的关键环节,传统工艺却长期受困于热损伤、氧化污染与解胶不均等难题。复坦希(北京)电子科技有限公司深耕UVLED技术多年,推出的氮气UVLED解胶机,以“无氧保护+精准光照”的创新组合,为行业提供了更可靠的解胶解决方案。

  传统解胶方式往往陷入两难:热解法易引发晶圆热应力变形,化学溶剂法则面临环保成本与残留风险。复坦希UVLED晶圆解胶机从原理上突破瓶颈,采用冷光源技术,无需高温与化学试剂,通过紫外线与UV胶光敏成分的精准作用实现解胶,从源头避免了基材损伤与环境污染问题。

  波长适配能力是设备精准解胶的核心支撑。该设备覆盖365nm、385nm、395nm、405nm等常见波段,可根据不同划片胶膜的光敏特性定制特殊波段大小,确保胶膜固化反应充分且稳定,解决了通用设备适配性差的行业痛点。搭配阵列式灯珠排布与定制光学透镜,光照均匀度大幅提升,让晶圆边缘与中心的解胶效果保持一致。

无氧解胶新方案:复坦希UVLED解胶机设备如何守护半导体晶圆品质?(图1)

  针对敏感晶圆的制造需求,设备的氮气保护系统成为品质关键。通过精准控制氮气流量与循环风道设计,设备能快速营造氧气含量ji低的洁净环境,有效防止晶圆表面氧化,这对于化合物半导体与超薄晶圆加工尤为重要。同时,设备兼容多尺寸晶圆,可与产线其他设备联动,适配量产场景的效率需求。

  某化合物半导体企业曾受困于GaN晶圆解胶后的氧化问题,导致后续键合良率偏低。引入复坦希UVLED晶圆解胶机后,借助无氧环境与385nm定制波长的精准匹配,晶圆表面氧化层厚度大幅降低,芯片电学性能测试合格率提升至99.5%,年成本节省显著。稳定的解胶效果让该设备成为其产线标准化配置。

  在绿色制造趋势下,该设备的环保与经济性优势同样突出。无需化学溶剂意味着减少了废液处理成本,进口LED灯珠长达数万小时的使用寿命,降低了设备维护频率与耗材投入。智能控制系统支持参数配方存储与一键调用,即使新手操作也能快速上手,进一步提升生产效率。

  从化合物半导体到高端封装场景,复坦希UVLED晶圆解胶机以技术创新破解行业痛点。无论是波长定制的精准性、无氧环境的保护性,还是量产适配的灵活性,都彰显了其在精密制造领域的核心价值,成为企业提升良率与效率的可靠伙伴。